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Descrizione
Pale/pale a sbalzo in carburo di silicio sinterizzato per reazione KCE®, formate mediante processo di colata o stampa 3D, sinterizzate per reazione, quindi sabbiolate e lavorate con precisione secondo le specifiche del disegno per soddisfare i requisiti d'uso. Sono componenti chiave dei sistemi di caricamento di wafer semiconduttori, con principali dimensioni di 2378 mm, 2550 mm, 2660 mm, ecc. Vengono utilizzate nel processo di rivestimento (diffusione) di wafer al silicio policristallino o monocristallino all'interno di forni a diffusione, svolgendo la funzione di trasporto e supporto dei wafer al silicio in ambienti ad alta temperatura (1000-1300 ℃).
Specifiche
Scheda tecnica KCE® SiSiC/RBSiC
| Parametri tecnici | Unità | Valore |
| Contenuto di Carburo di Silicio | % | 85 |
| Contenuto di Silicio libero | % | 15 |
| Densità apparente a 20°C | g/cm3 | ≥3.02 |
| Porosità Aperta | Vol % | 0 |
| Durezza HK | kg/mm² | 2600 |
| Resistenza alla flessione 20°C | Mpa | 250 |
| Resistenza alla flessione 1200°C | Mpa | 280 |
| 20 – 1000°C (Coefficiente di dilatazione termica) | 10–6 K–1 | 4.5 |
| Conducibilità termica 1000°C | W/m·K | 45 |
| Statico 20°C (Modulo di Elasticità) | GPA | 330 |
| Temperatura di funzionamento | °C | 1300 |
| Temp. max di utilizzo (aria) | °C | 1380 |
Applicazioni
Le pale/pale a sbalzo in carburo di silicio sinterizzato per reazione sono componenti chiave del sistema di caricamento dei wafer semiconduttori.
Vantaggi
Le palette a sbalzo in carburo di silicio hanno prestazioni stabili, non si deformano in ambienti ad alta temperatura, hanno una grande capacità di carico della wafer, sono resistenti a raffreddamento e riscaldamento rapidi, presentano un coefficiente di dilatazione termica ridotto e offrono una lunga durata.
La temperatura massima di esercizio può raggiungere i 1380 ℃; bassa espansione termica; estrema resistenza alla stabilità termica da shock termici; il coefficiente di espansione termica delle palette a sbalzo è simile a quello del rivestimento LPCVD, e la loro applicazione nell'LPCVD estende notevolmente il ciclo di manutenzione e pulizia e riduce significativamente gli inquinanti.
