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Produits

Pales en carbure de silicium (SiC) pour levier de commande dans le secteur des semiconducteurs

Description

Pales/hélices en carbure de silicium fritté par réaction KCE®, formées par moulage ou procédé d'impression 3D, frittées par réaction, puis sablées et usinées de précision conformément aux exigences du plan afin de répondre aux conditions d'utilisation. Ce sont des composants clés des systèmes de chargement de plaquettes semi-conductrices, dont les principales spécifications sont 2378 mm, 2550 mm, 2660 mm, etc. Elles sont utilisées dans le processus de revêtement (diffusion) de plaquettes en silicium polycristallin ou monocristallin dans des fours de diffusion, et assurent le transport et la support des plaquettes de silicium en environnement à haute température (1000-1300 ℃).

CARACTÉRISTIQUES

Fiche technique KCE® SiSiC/RBSiC

Paramètres techniques Unité Valeur
Teneur en carbure de silicium % 85
Teneur en silicium libre % 15
Masse volumique à 20°C g/cm³ ≥3.02
Porosité ouverte Vol % 0
Dureté HK kg/mm² 2600
Résistance à la flexion 20°C MPa 250
Résistance à la flexion 1200°C MPa 280
20 – 1000°C (Coefficient de dilatation thermique) 10–6 K–1 4.5
Conductivité thermique 1000°C W/m.k 45
Statique 20°C (Module d'élasticité) GPa 330
Température de fonctionnement °C 1300
Temp. max. d'utilisation (air) °C 1380
Applications

Les pales/hélices en carbure de silicium fritté par réaction sont des composants clés du système de chargement de plaquettes semi-conductrices.

Avantages

Les pales/hélices en carbure de silicium ont une performance stable, ne se déforment pas dans des environnements à haute température, possèdent une grande capacité de chargement de plaquettes, résistent aux refroidissements et chauffages rapides, ont un faible coefficient de dilatation thermique et offrent une longue durée de vie.
La température maximale de fonctionnement peut atteindre 1380 ℃ ; faible dilatation thermique ; stabilité extrêmement élevée au choc thermique ; le coefficient de dilatation thermique de l'hélice en porte-à-faux et du revêtement LPCVD est similaire, et leur utilisation dans les systèmes LPCVD prolonge considérablement les cycles d'entretien et de nettoyage tout en réduisant significativement les polluants.

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