EN
Ứng dụng
Vòi phun silicon carbide thiêu kết phản ứng, còn được gọi là vòi phun desulfur hóa silicon carbide, được sử dụng trong quá trình rửa khí thải, làm mát khí, rửa và tẩy trắng, chữa cháy, hệ thống khử lưu huỳnh khí thải và hệ thống loại bỏ bụi. Chủ yếu dùng trong khử lưu huỳnh nhà máy điện, loại bỏ lưu huỳnh đioxit và một số chất ô nhiễm khác từ khí thải nhà máy điện, đây là bộ phận quan trọng của các nhà máy nhiệt điện, nồi hơi lớn và thiết bị khử lưu huỳnh, loại bỏ bụi. Hiện nay có ba series và hàng chục chủng loại vòi phun silicon carbide: kiểu xoáy, kiểu xoắn ốc và kiểu cột lỏng. Các phương pháp nối bao gồm nối mặt bích, nối cuộn dây và nối ren. Quá trình khử lưu huỳnh chủ yếu bao gồm công nghệ khử lưu huỳnh khô, công nghệ khử lưu huỳnh bán khô, công nghệ khử lưu huỳnh ướt khí thải, v.v. Trong các quy trình khử lưu huỳnh, các vòi phun áp lực thường dùng bao gồm vòi phun xoáy hình nón đặc, vòi phun xoáy hình nón rỗng, vòi phun xoáy hình nón khí và vòi phun xoáy hình nón đặc.
Ưu điểm
Vòi phun khử lưu huỳnh bằng silicon carbide là một loại vật liệu gốm mới với các tính chất ưu việt như độ bền cao, độ cứng cao, khả năng chống ăn mòn mạnh, chịu mài mòn khắc nghiệt, chịu nhiệt độ cao, v.v. Nó có thể có tuổi thọ dài đặc biệt trong điều kiện làm việc khắc nghiệt.
Thông số kỹ thuật
Bảng thông số kỹ thuật KCE® SiSiC/RBSiC
| Thông số kỹ thuật | Đơn vị | Giá trị |
| Hàm lượng Carbide Silic | % | 85 |
| Hàm lượng Silic tự do | % | 15 |
| Khối lượng riêng khối 20°C | g/cm³ | ≥3.02 |
| Độ xốp hở | Vol % | 0 |
| Độ cứng HK | kg/mm² | 2600 |
| Cường độ uốn 20°C | MPa | 250 |
| Cường độ uốn 1200°C | MPa | 280 |
| 20 – 1000°C (Hệ số giãn nở nhiệt) | 10–6 K–1 | 4.5 |
| Dẫn nhiệt 1000°C | W/m.k | 45 |
| Tĩnh 20°C (Mô-đun Đàn hồi) | GPa | 330 |
| Nhiệt độ làm việc | °C | 1300 |
| Nhiệt độ làm việc tối đa (trong không khí) | °C | 1380 |
